{"id":15684,"date":"2025-07-25T08:03:44","date_gmt":"2025-07-25T08:03:44","guid":{"rendered":"https:\/\/www.epicmicron.com\/?p=15684"},"modified":"2025-07-25T08:03:47","modified_gmt":"2025-07-25T08:03:47","slug":"critical-shortage-of-semiconductor-materials","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.epicmicron.com\/it\/critical-shortage-of-semiconductor-materials\/","title":{"rendered":"Carenza critica di materiali semiconduttori"},"content":{"rendered":"

Recently, a major news emerged from the semiconductor industry. Japanese CMP (Chemical Mechanical Polishing) slurry giant AGC (formerly Asahi Glass Co., Ltd.) has announced a supply halt. It has been reported that its Fab1 DSTI slurry (Material Number: M2701505, AGC-TW) has been suspended. This sudden development has drawn the attention of industry insiders.<\/p>\n\n\n\n

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Fango di AGC<\/em><\/figcaption><\/figure>\n\n\n\n

Gli analisti sottolineano che la causa diretta dell'interruzione dell'approvvigionamento \u00e8 la nuova politica di Taiwan in materia di controllo delle esportazioni di prodotti chimici semiconduttori chiave. La politica impone controlli pi\u00f9 severi sull'esportazione di specifici materiali di alta gamma. Ci\u00f2 riguarda diversi modelli di prodotto necessari per processi di produzione avanzati.<\/p>\n\n\n\n

AGC ha una base produttiva a Taiwan, che rifornisce principalmente il mercato asiatico. Di conseguenza, diverse fabbriche di wafer a valle nella Cina continentale stanno valutando urgentemente soluzioni alternative. Alcune hanno iniziato ad aumentare gli acquisti da altri fornitori esteri e da marchi nazionali. Tuttavia, la scarsit\u00e0 di offerta potrebbe persistere nel breve termine.<\/p>\n\n\n\n

CMP: il palcoscenico ultrapiatto per wafer<\/h2>\n\n\n\n

Con il progresso della tecnologia dei circuiti integrati, in particolare nell'era sub-micrometrica, la riduzione delle dimensioni delle caratteristiche e la spinta verso una maggiore densit\u00e0 dei dispositivi hanno reso la planarit\u00e0 degli interstrati sempre pi\u00f9 critica. Di conseguenza, la domanda di trattamenti superficiali ad altissima precisione e di elevata qualit\u00e0 superficiale dei substrati semiconduttori continua a crescere.<\/p>\n\n\n\n

Attualmente, la lucidatura chimica meccanica (CMP<\/a>) \u00e8 l'unica tecnologia chiave in grado di raggiungere la planarizzazione globale. Con la riduzione delle dimensioni minime delle caratteristiche dei componenti dei circuiti integrati a 7 nm e persino a 5 nm, la tecnologia CMP ha registrato rapidi progressi negli ultimi decenni. La sua precisione di lucidatura raggiunge ora il livello nanometrico ed \u00e8 ampiamente adottata nella produzione di semiconduttori.<\/p>\n\n\n\n

La CMP \u00e8 diventata un processo standard nella produzione di circuiti integrati su scala nanometrica, supportando il continuo sviluppo della Legge di Moore. Nella lavorazione dei semiconduttori, la CMP garantisce una superficie estremamente piatta del wafer, fornendo una solida base per le fasi successive come la litografia e l'incisione. \u00c8 un processo fondamentale nella produzione avanzata di chip.<\/p>\n\n\n\n

Urgente necessit\u00e0 di innovazioni nei materiali chiave per fanghi<\/h2>\n\n\n\n

La CMP rimuove il materiale e raggiunge la planarit\u00e0 globale della superficie attraverso una combinazione di reazioni chimiche tra il liquido lucidante e il materiale da lucidare. L'azione meccanica delle particelle abrasive all'interno della sospensione.<\/p>\n\n\n\n

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Diagramma schematico del processo CMP<\/em><\/figcaption><\/figure>\n\n\n\n

Pertanto, il liquido lucidante \u00e8 uno dei materiali di consumo principali nel processo CMP. Le sue prestazioni influiscono direttamente sull'efficienza della lucidatura e sulla qualit\u00e0 della superficie del truciolo.<\/p>\n\n\n\n

Attualmente, il mercato globale dei fanghi CMP \u00e8 altamente concentrato, con produttori americani e giapponesi che ne controllano oltre l'80%, mentre le aziende giapponesi dominano il segmento di fascia alta.<\/p>\n\n\n\n

Sebbene alcune aziende cinesi siano riuscite a sostituire i prodotti di fascia bassa e media, il tasso di autosufficienza per i prodotti di fascia media e alta resta al di sotto di 20%, evidenziando l'urgente necessit\u00e0 di alternative nazionali.<\/p>\n\n\n\n

Uno dei motivi principali della mancanza di autosufficienza nei liquidi lucidanti di fascia media e alta \u00e8 la localizzazione incompleta delle materie prime essenziali.
Prendiamo ad esempio gli abrasivi: nel CMP, i tre abrasivi pi\u00f9 comunemente utilizzati sono Al\u2082O\u2083, SiO\u2082 e CeO\u2082. Questi forniscono la forza meccanica necessaria per rimuovere il materiale dalle superfici dei wafer e sono materie prime essenziali per la miscela CMP.<\/p>\n\n\n\n

Riepilogo<\/h2>\n\n\n\n

\u00c8 stato segnalato che le linee di produzione a 14 nm e inferiori di aziende come SMIC e Huahong Semiconductor consumano pi\u00f9 di 1.000 tonnellate di fanghi di lucidatura al mese. Un'interruzione della fornitura potrebbe portare all'arresto delle linee di produzione.<\/p>\n\n\n\n

Un importante produttore di wafer ha rivelato che le scorte di fanghi di lucidatura durano in genere solo 1-2 mesi. Se l'interruzione della fornitura dovesse persistere, la capacit\u00e0 produttiva del terzo trimestre potrebbe ridursi di 101 tonnellate e 3 tonnellate di peso, rendendo la situazione estremamente urgente.<\/p>\n\n\n\n

Questo incidente serve da monito: la sicurezza della supply chain non si limita ad apparecchiature e chip, ma include anche materiali di consumo critici come la poltiglia di lucidatura e materiali upstream come l'allumina ad alta purezza, che rimangono entrambi colli di bottiglia vulnerabili.<\/p>\n\n\n\n

Il settore cinese dei materiali semiconduttori deve accelerare gli sforzi per ridurre la dipendenza esterna. In caso contrario, crisi simili potrebbero ripetersi, minacciando lo sviluppo a lungo termine dell'industria dei semiconduttori del Paese.<\/p>\n\n\n\n

Polvere epica<\/h2>\n\n\n\n

In qualit\u00e0 di partner di fiducia nella lavorazione dei materiali, Macchinari per polveri epiche<\/a> \u00e8 specializzata nella produzione di apparecchiature di macinazione e classificazione ad alte prestazioni. Grazie alla nostra profonda esperienza nella tecnologia delle polveri fini, supportiamo l'industria dei semiconduttori e dei materiali elettronici fornendo soluzioni personalizzate per la preparazione di materiali chiave come allumina, silice e altre polveri ad elevata purezza.<\/p>\n\n\n\n

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