{"id":15684,"date":"2025-07-25T08:03:44","date_gmt":"2025-07-25T08:03:44","guid":{"rendered":"https:\/\/www.epicmicron.com\/?p=15684"},"modified":"2025-07-25T08:03:47","modified_gmt":"2025-07-25T08:03:47","slug":"critical-shortage-of-semiconductor-materials","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.epicmicron.com\/es\/critical-shortage-of-semiconductor-materials\/","title":{"rendered":"Escasez cr\u00edtica de materiales semiconductores"},"content":{"rendered":"

Recently, a major news emerged from the semiconductor industry. Japanese CMP (Chemical Mechanical Polishing) slurry giant AGC (formerly Asahi Glass Co., Ltd.) has announced a supply halt. It has been reported that its Fab1 DSTI slurry (Material Number: M2701505, AGC-TW) has been suspended. This sudden development has drawn the attention of industry insiders.<\/p>\n\n\n\n

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Lodos de AGC<\/em><\/figcaption><\/figure>\n\n\n\n

Los analistas se\u00f1alan que la causa directa de la interrupci\u00f3n del suministro es la nueva pol\u00edtica de revisi\u00f3n de las exportaciones de Taiw\u00e1n sobre productos qu\u00edmicos semiconductores clave. Esta pol\u00edtica impone controles m\u00e1s estrictos sobre la exportaci\u00f3n de materiales espec\u00edficos de alta gama. Esto afecta a varios modelos de productos necesarios para procesos de fabricaci\u00f3n avanzados.<\/p>\n\n\n\n

AGC tiene una base de producci\u00f3n en Taiw\u00e1n, que abastece principalmente al mercado asi\u00e1tico. Por ello, varias f\u00e1bricas de obleas en China continental est\u00e1n evaluando urgentemente alternativas. Algunas han comenzado a aumentar las compras a otros proveedores extranjeros y marcas nacionales. Sin embargo, la escasez de suministro podr\u00eda persistir a corto plazo.<\/p>\n\n\n\n

CMP: La etapa ultraplana para obleas<\/h2>\n\n\n\n

Con el avance de la tecnolog\u00eda de circuitos integrados, especialmente en la era submicr\u00f3nica, la reducci\u00f3n del tama\u00f1o de las caracter\u00edsticas y la b\u00fasqueda de una mayor densidad de dispositivos han hecho que la planitud entre capas sea cada vez m\u00e1s crucial. En consecuencia, la demanda de tratamientos superficiales de ultraprecisi\u00f3n y alta calidad superficial de sustratos semiconductores contin\u00faa en aumento.<\/p>\n\n\n\n

En la actualidad, el Pulido Qu\u00edmico Mec\u00e1nico (CMP<\/a>) es la \u00fanica tecnolog\u00eda clave capaz de lograr una planarizaci\u00f3n global. A medida que el tama\u00f1o m\u00ednimo de las caracter\u00edsticas de los componentes de circuitos integrados se reduce a 7 nm e incluso a 5 nm, la tecnolog\u00eda CMP ha avanzado r\u00e1pidamente en las \u00faltimas d\u00e9cadas. Su precisi\u00f3n de pulido alcanza ahora el nivel nanom\u00e9trico y se adopta ampliamente en la fabricaci\u00f3n de semiconductores.<\/p>\n\n\n\n

El CMP se ha convertido en un proceso est\u00e1ndar en la producci\u00f3n de circuitos integrados a nanoescala, lo que impulsa el desarrollo continuo de la Ley de Moore. En el procesamiento de semiconductores, el CMP garantiza una superficie de oblea altamente plana, proporcionando una base s\u00f3lida para pasos posteriores como la litograf\u00eda y el grabado. Es un proceso vital en la fabricaci\u00f3n avanzada de chips.<\/p>\n\n\n\n

Necesidad urgente de avances en materiales clave para lodos<\/h2>\n\n\n\n

El CMP elimina material y logra una superficie plana mediante una combinaci\u00f3n de reacciones qu\u00edmicas entre el l\u00edquido de pulido y el material de destino. La acci\u00f3n mec\u00e1nica de las part\u00edculas abrasivas en la suspensi\u00f3n.<\/p>\n\n\n\n

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Diagrama esquem\u00e1tico del proceso CMP<\/em><\/figcaption><\/figure>\n\n\n\n

Por lo tanto, el l\u00edquido de pulido es uno de los consumibles principales del proceso CMP. Su rendimiento afecta directamente la eficiencia del pulido y la calidad de la superficie de la viruta.<\/p>\n\n\n\n

Actualmente, el mercado global de lodos CMP est\u00e1 altamente concentrado, con fabricantes estadounidenses y japoneses controlando m\u00e1s del 80% del mercado. Las empresas japonesas dominan el segmento de alta gama.<\/p>\n\n\n\n

Aunque algunas empresas chinas han logrado sustituciones en las gamas de productos de gama baja y media, la tasa de autosuficiencia para los productos de gama media y alta sigue siendo inferior a 20%, lo que destaca la urgente necesidad de alternativas nacionales.<\/p>\n\n\n\n

Una de las principales razones de la falta de autosuficiencia en l\u00edquidos de pulido de gama media y alta es la localizaci\u00f3n incompleta de materias primas clave.
Tomemos como ejemplo los abrasivos: en CMP, los tres abrasivos m\u00e1s utilizados son Al\u2082O\u2083, SiO\u2082 y CeO\u2082. Estos proporcionan la fuerza mec\u00e1nica necesaria para eliminar material de las superficies de las obleas y son materias primas esenciales para la suspensi\u00f3n de CMP.<\/p>\n\n\n\n

Resumen<\/h2>\n\n\n\n

Se ha informado que las l\u00edneas de producci\u00f3n de 14 nm o menos en empresas como SMIC y Huahong Semiconductor consumen m\u00e1s de 1000 toneladas de lodo de pulido al mes. Un corte de suministro podr\u00eda provocar paradas de la l\u00ednea de producci\u00f3n.<\/p>\n\n\n\n

Una importante f\u00e1brica de obleas revel\u00f3 que el inventario de pulpa de pulido suele durar solo uno o dos meses. Si la interrupci\u00f3n del suministro contin\u00faa, la capacidad de producci\u00f3n del tercer trimestre podr\u00eda reducirse en 101 TP3T, lo que hace que la situaci\u00f3n sea sumamente urgente.<\/p>\n\n\n\n

Este incidente sirve de advertencia: la seguridad de la cadena de suministro no se limita a equipos y chips, sino que tambi\u00e9n incluye consumibles cr\u00edticos como lodos de pulido y materiales previos como al\u00famina de alta pureza, ambos de los cuales siguen siendo cuellos de botella vulnerables.<\/p>\n\n\n\n

El sector de materiales semiconductores de China debe intensificar sus esfuerzos para reducir la dependencia externa. De lo contrario, podr\u00edan repetirse crisis similares, amenazando el desarrollo a largo plazo de la industria de semiconductores del pa\u00eds.<\/p>\n\n\n\n

Polvo \u00e9pico<\/h2>\n\n\n\n

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